スライディングチューブ炉

1200C デュアル温度ゾーン スライディング チューブ炉は、急速な熱処理と急速冷却を必要とする場合に特に適しており、半導体製造で広く使用されています。デュアル温度ゾーン設計により、スライドによって独立した温度制御と緩やかな冷却が実現します。30 セクションの温度時間プログラム、正確な制御、精度 ±1 度、テーブル キャビネット設計、人間工学に基づいた設計。移動可能な滑車設計により、簡単に移動できます。

1.1200C 最大、1100C 連続使用
2.デュアル温度ゾーン設計、パイプ径OD40〜300mmオプション、加熱ゾーン205/350 / 440mmまたはカスタマイズオプション
3.スライドドア設計、材料の観察やチューブの配置に便利
4.30-段階の温度時間制御プログラム、精度±1度、タッチスクリーンはオプション
5.電圧計と電流計が付属しており、トラブルシューティングが簡単
6.テーブルデザイン、材料を配置しやすい
7.滑り安定性
8.不活性雰囲気で満たすことができ、真空にすることができる

ハイエンド炉本体

美しくエレガント。1430Cアルミナセラミックファイバー炉。30-段階温度制御時間プログラム、PID

真空ポンプとスライドが利用可能

真空対応、分割炉扉設計、金属トラックサポートスライド、高純度石英管、透明

不活性雰囲気と透明ビューが利用可能

N2、Ar、He、H2などをチューブに充填、高純度石英チューブ、スライド可能

デスクとキャスター付き

人間工学に基づいたデスクデザイン、便利な資材収納、ブレーキ機能付きで移動が簡単な車輪

1. お問い合わせの際は、必要な加熱ゾーンの温度、材料を積載するスペースのサイズ、加熱ゾーンの数、電圧位相、手動または電気制御、テーブルの必要性の有無などをお知らせください。

2.カスタマイズされたサービスを提供できる

3.石英管は特性上、急激な冷却や加熱により破損する場合があります。消耗品ですので、予備部品の購入をお勧めします。
4. 内部圧力は0.02Mpa以下である必要があります。

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