真空グラファイト加熱炉
真空グラファイト加熱炉

真空グラファイト加熱炉

真空グラファイト加熱炉は、真空または保護雰囲気で焼結された無機材料(セラミックシール、炭化ケイ素、ジルコニア、酸化亜鉛、アルミナなど)および金属材料(超硬合金など)に広く使用されており、希土類元素とその酸化物の精製やサファイアのアニール処理にも使用できます。
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製品の説明

 

ジルコニアナノグラフェン活性炭材料の焼結用の 2000.C 1900.C 1800.C アルゴングラファイト加熱真空炉。

真空炉は、グラファイトを発熱体として使用する高温、高真空耐性炉です。最高動作温度は2000度~2200度に達します。このシリーズの製品は、真空または保護雰囲気で焼結された無機材料(セラミックシール、炭化ケイ素、ジルコニア、酸化亜鉛、アルミナなど)および金属材料(超硬合金など)に広く使用されており、希土類元素とその酸化物の精製、サファイアのアニール処理にも使用できます。大学や研究機関でのパイロット生産にも適しています。

 

標準機能

 

1. 水冷チャネルを備えた二重垂直水冷炉シェル。

2. 優れた温度均一性。

3. 上部から出し入れできるドア、独立したコントロール ボックス。

4. PLC タッチ スクリーン コントローラー、過熱、過圧、水中圧、ガス圧チェーン機能に対する保護機能が組み込まれています。

 

モデル

SV2-20TP

SV2-23TP

チャンバーサイズ:

直径×高さ(mm)

直径90×高さ120mm、直径160×高さ160、直径320×高さ320mmはオプションです。 それ以上;

最高温度(.C)

2000

2300

動作温度(.C)

1900

2200

炉殻:

水冷チャネルを備えた二重垂直水冷炉シェル。

チャンバー/断熱材:

ハードグラファイトブランケット+ソフトグラファイトブランケット。

温度精度:

±1

温度均一性(度)

±5

電力(KW)

30-150kw、チャンバーサイズによって異なります。

電圧(V)

AC 380V / 415V /440V /480V 2相または3相。

熱電対タイプ

タングステン-レニウム熱電対

加熱要素

黒鉛

温度コントローラ

PID 自動制御および自動調整機能、正確なプロセスのための 50 個のプログラム可能なセグメント。

PLC タッチ スクリーン コントローラー。過熱、過圧、水中圧、ガス圧チェーン機能に対する保護機能が組み込まれています。

加熱速度

0-30 度 / 分調整可能。10-15.C/分の使用をお勧めします。

真空ユニット:

機械式ポンプ + 真空バルブとベローズパイプを備えた拡散ポンプ。

真空レベル(コールド状態)

6.67x10^-3Pa、高温状態の動作真空度:最大6.67x10^-2Pa。

真空測定:

複合真空計/赤外線温度計;

雰囲気:

不活性ガス雰囲気(Ar、N2)使用可能、膨張圧力< 0.03Mpa, Pressure rate: ≤ 2Pa/h.

OEM/ODMをサポート

 

標準付属品

 

耐熱手袋|るつぼトング|熱電対|炉ドアブロック|ユーザーマニュアル|ツールキット

 

オプションパーツ

 

水チラー、高真空ポンプ、追加の加熱要素、追加の熱電対

PLC タッチ スクリーン コントローラー、ペーパーレス レコーダー、リモート通信制御システム、2-3 ガス チャネル混合システム デスクトップ。

 

詳細画像

 

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密閉性の高いロックドアで、開閉も簡単です。
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チャンバー付きグラファイト加熱素子
 
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LCD 高度インテリジェント機器、PID 制御による 30- セグメント プログラム
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多機能で完全なコントロールパネル、使いやすく操作が簡単
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高品質の耐摩耗性Fumaホイール、優れた耐荷重性

 

応用

 

真空グラファイト炉は、工業および鉱業企業における科学研究および小ロット生産のほか、セラミック、冶金、電子工学、ガラス、化学工業、機械、耐火材料、新素材開発、特殊材料、建築材料、焼結などの分野で広く使用されており、大学や専門学校での科学研究および教育にも使用されています。

 

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研究室
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金属
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セラミック
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エレクトロニクス
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化学薬品
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ガラス

 

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